Ausstellungsgestaltung
Das Modul der Preisträger 2020
Dazu haben sie die Grenzen des bisher technisch Machbaren drastisch verändert, unter anderem durch ein neuartiges optisches System und eine Lasertechnik, die das Herzstück der neuen Anlagen für die EUV-Chipproduktion sind. Mit ihrer Innovation haben sie einen wesentlichen Beitrag dazu geleistet, dass sich mikroelektronische Bauteile mit extrem feinen Strukturen fertigen lassen. Gordon Moore, einer der Mitbegründer von Intel, hat 1965 in seinem Satz „Die Anzahl der Transistoren auf einem Mikrochip verdoppelt sich alle zwei Jahre“ postuliert. Bis heute gilt das „Mooresche Gesetz“ – nicht zuletzt dank der EUV-Lithographie.
Im Modul selbst wird er der aufwändige Prozess der EUV- Lithographie ausführlich anhand der verschiedenen Komponenten, hier auch kleinerer Exponate, erläutert. Mit einem Hands-on-Exponat können die Besucher*innen erfahren, wie wichtig die Beschichtung eines Spiegels für seine Funktion in der EUV-Lithographie ist. Statements der drei Preisträger, im Medienterminal des Moduls verortet, geben Aufschluss darüber, wie langwierig und komplex der Entwicklungsprozess war und wie man gemeinsam zum Erfolg gekommen ist.