
Ausstellung
Wie in einem monumentalen Wechselrahmen werden an der Stirnseite der Ausstellung übergroße Schwarz-Weiß-Portraits diese Persönlichkeiten präsentiert, die „Hall of Fame“ als das moderne Pendant zum Ehrensaal des Deutschen Museums. Das Archiv mit allen Aktivitäten zum Preis und das „Emeritus-Modul“, das Informationen, über die nicht mehr in der Ausstellung gezeigten Preisträgerprojekte beinhaltet, schließen diese Installation ab. Auf der gegenüberliegenden Seite sind alle diejenigen namentlich benannt, deren Innovationen in die Endauswahl des Deutschen Zukunftspreises gelangten: Forscherpersönlichkeiten, die zum „Kreis der Besten“ gehören.
Die preisgekrönten Arbeiten der Preisträger sind auf Projektinseln inszenatorisch dargestellt. Jedes der zehn Module hat ein „Einfallstor“, eine sinnlich-spielerische Einladung, sich mit dem Projekt zu beschäftigen. In Vertiefungsebenen der Ausstellungsmodule werden der wissenschaftliche Hintergrund, die Erklärung der Innovationen und ihre wirtschaftliche wie gesellschaftliche Bedeutung behandelt. In kurzen Statements sind Einstellungen und Erfahrungen der Preisträgerinnen und Preisträger dokumentiert.
Dazu haben sie die Grenzen des bisher technisch Machbaren drastisch verändert, unter anderem durch ein neuartiges optisches System und eine Lasertechnik, die das Herzstück der neuen Anlagen für die EUV-Chipproduktion sind. Mit ihrer Innovation haben sie einen wesentlichen Beitrag dazu geleistet, dass sich mikroelektronische Bauteile mit extrem feinen Strukturen fertigen lassen. Gordon Moore, einer der Mitbegründer von Intel, hat 1965 in seinem Satz „Die Anzahl der Transistoren auf einem Mikrochip verdoppelt sich alle zwei Jahre“ postuliert. Bis heute gilt das „Mooresche Gesetz“ – nicht zuletzt dank der EUV-Lithographie.
Im Modul selbst wird er der aufwändige Prozess der EUV- Lithographie ausführlich anhand der verschiedenen Komponenten, hier auch kleinerer Exponate, erläutert. Mit einem Hands-on-Exponat können die Besucher*innen erfahren, wie wichtig die Beschichtung eines Spiegels für seine Funktion in der EUV-Lithographie ist. Statements der drei Preisträger, im Medienterminal des Moduls verortet, geben Aufschluss darüber, wie langwierig und komplex der Entwicklungsprozess war und wie man gemeinsam zum Erfolg gekommen ist.